06-05-2020, 10:03 AM
(آخرین ویرایش: 06-05-2020, 10:05 AM، توسط فاطمه الهامی نیا.)
کیش تک_طرح مشاوره متخصصین صنعت و مدیریت_گروه فنی و مهندسی :
مدارهــای مجتمــع کــه در همــه جــا از قهوه ســاز گرفتــه تــا رایانــه وجــود دارنــد و از ســیلیکون بلــوری بی نقــص الگو بــرداری می شــوند، کامــلا نــازک هســتند.
محققــان دانشــگاه کرنــل بــر ایــن بــاور هســتند کــه بتواننــد مرزهــای لایــه نــازک را بــه حــد یــک اتــم هــم برســانند. مــاده انتخابــی آنهــا گرافــن و نیتریــد بــور شــش گوشــی اســت.
ایــن پژوهشــگران راهــی بــرای الگودهــی لایه هــای تــک اتمــی گرافــن و نیتریــد بــور، بــدون اســتفاده از زیرلایــه ســیلیکونی ابــداع کرده انــد. ایــن روش کــه آن را رشــد مجــدد الگودهی شــده می نامنــد، می توانــد منجـر بـه مدارهـای نـازک اتمـی بـدون زیرلایـه شـود.
بــا ایــن ضخامــت بســیار نــازک، آنهــا می تواننــد در هــوا و آب شــناور بماننــد، ولــی بــا اســتحکام کششــی و عملکــرد الکتریکــی بــالا.
فراینـد رشـد مجـدد الگودهـی شـده کـه از روش لیتوگرافی نــوری مرســوم در فــرآوری ویفــر ســیلیکونی اســتفاده می کنــد، بــه گرافــن و نیتریــد بــور اجــازه می دهــد کــه در شــکل فیلم هــای صــاف و کامــلا تخــت رشــد یابنــد و هنگامــی کــه بــا مــاده نیمه رســانای نهایــی ترکیــب شــوند، منجــر بــه اولیــن مــدار مجتمــع نــازک اتمــی شــوند.
رشد مجدد الگودهی کمی شبیه به فرایند شابلون کاری است. ابتدا گرافن روی مس رشد داده شده و از لیتوگرافی نوری برای برداشتن نواحی گزینشی از گرافن که به الگوی مطلوب بستگی دارد، استفاده می شود. سپس نواحی خالی شده را با نیترید بور پر می کنند.
ایــن فراینــد نخســتین بــار در مرکــز تســهیلات علــم و فنــاوری در مقیــاس نانــو در دانشــگاه کرنــل بــه اجــرا در آورده شــده اســت.
مدارهــای مجتمــع کــه در همــه جــا از قهوه ســاز گرفتــه تــا رایانــه وجــود دارنــد و از ســیلیکون بلــوری بی نقــص الگو بــرداری می شــوند، کامــلا نــازک هســتند.
محققــان دانشــگاه کرنــل بــر ایــن بــاور هســتند کــه بتواننــد مرزهــای لایــه نــازک را بــه حــد یــک اتــم هــم برســانند. مــاده انتخابــی آنهــا گرافــن و نیتریــد بــور شــش گوشــی اســت.
ایــن پژوهشــگران راهــی بــرای الگودهــی لایه هــای تــک اتمــی گرافــن و نیتریــد بــور، بــدون اســتفاده از زیرلایــه ســیلیکونی ابــداع کرده انــد. ایــن روش کــه آن را رشــد مجــدد الگودهی شــده می نامنــد، می توانــد منجـر بـه مدارهـای نـازک اتمـی بـدون زیرلایـه شـود.
بــا ایــن ضخامــت بســیار نــازک، آنهــا می تواننــد در هــوا و آب شــناور بماننــد، ولــی بــا اســتحکام کششــی و عملکــرد الکتریکــی بــالا.
فراینـد رشـد مجـدد الگودهـی شـده کـه از روش لیتوگرافی نــوری مرســوم در فــرآوری ویفــر ســیلیکونی اســتفاده می کنــد، بــه گرافــن و نیتریــد بــور اجــازه می دهــد کــه در شــکل فیلم هــای صــاف و کامــلا تخــت رشــد یابنــد و هنگامــی کــه بــا مــاده نیمه رســانای نهایــی ترکیــب شــوند، منجــر بــه اولیــن مــدار مجتمــع نــازک اتمــی شــوند.
رشد مجدد الگودهی کمی شبیه به فرایند شابلون کاری است. ابتدا گرافن روی مس رشد داده شده و از لیتوگرافی نوری برای برداشتن نواحی گزینشی از گرافن که به الگوی مطلوب بستگی دارد، استفاده می شود. سپس نواحی خالی شده را با نیترید بور پر می کنند.
ایــن فراینــد نخســتین بــار در مرکــز تســهیلات علــم و فنــاوری در مقیــاس نانــو در دانشــگاه کرنــل بــه اجــرا در آورده شــده اســت.